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"微細加工"で検索した結果　　49件

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低ダメージ精密エッチング装置 [Spica #2]

メーカー名
住友精密工業(株)
型番
Spica
仕様
プラズマ励起方式:誘導結合型
ICP出力:最大1kW
バイアス出力:最大300W
プロセスガス:Cl2, BCl3, SF6, Ar, O2, N2
試料ステージ温度:10℃～30℃
最大試料サイズ:6インチΦ
料金案内
NOF利用料金表
問い合わせ先部署
微細加工ユニット

低ダメージ精密エッチング装置 [Spica #1]

メーカー名
住友精密工業(株)
型番
Spica
仕様
プラズマ励起方式:誘導結合型
ICP出力:最大1kW
バイアス出力:最大300W
プロセスガス:CHF3, CF4, C4F8, SF6, Ar, O2, N2
試料ステージ温度:10℃～30℃
最大試料サイズ:6インチΦ
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微細加工ユニット

電子ビーム描画装置 [JBX-8100FS]

メーカー名
日本電子
型番
JBX-8100FS
仕様
・常用加速電圧：100kV（最大200kV）
・クロック周波数：125MHz
・12カセット自動搬送
・試料サイズ：最大φ8インチ
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微細加工ユニット

電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]

メーカー名
株式会社　エリオニクス
型番
ELS-BODEN
仕様
加速電圧：100kV
基板サイズ：最大8インチ
フィールドサイズ：1mm
ビーム電流：100pA～10nA
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微細加工ユニット

レーザー描画装置 [DWL66+]

メーカー名
ハイデルベルグ・インストルメンツ HEIDELBERG INSTRUMENT
型番
DWL66+
仕様
・光源：375nm 半導体レーザー (70mW)
・描画モード：ラスタースキャン描画、ベクターモード描画
・解像モード：0.3μm, 0.6μm, 0.8μm, 1.0μm
・最大試料サイズ：8インチ角
・その他：グレースケール描画、重ね合わせ描画

【特徴】・高解像度フォトリソグラフィ ・高精細グレースケール描画
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微細加工ユニット

マスクレス露光装置 [DL-1000]

メーカー名
ナノシステムソリューションズ
型番
DL-1000
仕様
・光源　405nm半導体レーザー（h線）
・照度　300mW/cm2
・位置決め精度　±1um以下
・重ね合わせ精度　±1um以下
・試料サイズ　最大4インチ角
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微細加工ユニット

マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]

メーカー名
ナノシステムソリューションズ
型番
DL-1000 / NC2P
仕様
・光源　405nm LD（h線）
・照度：10W/cm2
・位置決め精度：500nm以下
・重ね合わせ精度：500nm以下
・試料サイズ　最大8インチ角
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微細加工ユニット

マスクレス露光装置 [MLA150]

メーカー名
ハイデルベルグ・インストルメンツ
型番
MLA150
仕様
露光方式:DMD
光源:375nm半導体レーザー
解像度:1um
位置決め精度:0.5um以下
重ね合わせ精度:0.5um以下
最大試料サイズ:8インチ角
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微細加工ユニット

水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]

メーカー名
サムコ株式会社
型番
AQ-500
仕様
・高周波出力：50-250W
・反応ガス：H2O,O2
・自動運転プログラム
・試料サイズ：最大φ8インチ
・水蒸気プラズマによる還元、洗浄、樹脂接合、親水化処理が可能
・酸素ガスを添加することにより、還元雰囲気でのアッシングが可能
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微細加工ユニット

水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]

メーカー名
サムコ
型番
AQ-500
仕様
・高周波出力：50-250W
・反応ガス：H2O, O2
・自動運転プログラム
・試料サイズ：最大φ8インチ
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