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共用設備

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CCP-RIE装置 [RIE-200NL]

メーカー名
サムコ
型番
RIE-200NL
仕様
・プラズマ励起方式 平行平板型
・電源出力 最大300W
・プロセスガス CHF3,CF4,SF6,Ar,O2,N2
・試料ステージ温度 室温
・試料サイズ 最大φ8インチ
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NOF利用料金表
問い合わせ先部署
微細加工ユニット

ICP-RIE装置 [RIE-101iPH]

メーカー名
サムコ
型番
RIE-101iPH
仕様
・プラズマ励起方式 誘導結合型
・電源出力 ICP出力:最大1kW/バイアス出力:最大300W
・プロセスガス Cl2,BCl3,Ar,O2,N2
・試料ステージ温度 200度以下
・試料サイズ 最大φ4インチ
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微細加工ユニット

ICP-RIE装置 [RV-APS-SE]

メーカー名
住友精密工業
型番
MUC-21 RV-APS-SE
仕様
・プラズマ励起方式 誘導結合型
・電源出力 ICP出力:最大3kW/バイアス出力:最大1kW
・プロセスガス:CHF3,CF4,C4F8,SF6,Ar,O2,He
・試料ステージ温度 -10~+40度 
・試料サイズ 最大φ4インチ
・その他 SiO2エッチングレート:0.5um/min以上,終点検出機能装備
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微細加工ユニット

シリコンDRIE装置 [ASE-SRE]

メーカー名
住友精密工業
型番
MUC-21 ASE-SRE
仕様
・プラズマ励起方式 誘導結合型
・電源出力 ICP出力:最大1kW/バイアス出力:最大100W
・プロセスガス SF6,C4F8,Ar,O2
・試料ステージ温度 室温
・試料サイズ 最大φ3インチ
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微細加工ユニット

原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE]

メーカー名
オックスフォード・インストゥルメンツ
型番
PlasmaPro 100 Cobra 300 ALE
仕様
・プラズマ励起方式:誘導結合型
・電源出力:ICP出力 最大3kW/バイアス出力 最大300W
・プロセスガス:CL2, BCL3, SF6, Ar, N2, O2
・試料ステージ温度:-30~80℃
・試料サイズ:最大φ6インチ
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赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #2]

メーカー名
アドバンス理工株式会社
型番
RTP-6
仕様
加熱方式:放物面反射赤外線ランプによる上部片面加熱方式
プロセス温度:1100℃以下
昇温速度:10℃/秒以下
プロセスガス:Ar, N2, Ar;H2(3%)
試料サイズ:最大φ6インチ
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微細加工ユニット

赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3]

メーカー名
アドバンス理工株式会社
型番
RTP-6
仕様
加熱方式:放物面反射赤外線ランプによる上部片面加熱方式
プロセス温度:1100℃以下
昇温速度:10℃/秒以下
プロセスガス:O2, N2, Ar+H2(3%)
試料サイズ:最大φ6インチ
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微細加工ユニット

ダイシングソー [DAD322]

メーカー名
ディスコ
型番
DAD322
仕様
・切削刃 ダイヤモンドブレード
・切削範囲 XY:162mm以下
・スピンドル回転数 3000-40000rpm
・顕微鏡 モニタ上倍率27倍/270倍電動切替
・試料サイズ 最大φ6インチ
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微細加工ユニット

ダイシングソー [DAD3220]

メーカー名
ディスコ
型番
DAD-3220
仕様
・ブレード種:Si用及びAl2O3切断用ブレード
・ウェハサイズ:最大φ6インチ
・切断位置決め精度:5μm以内(CCDカメラによる位置指定)
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微細加工ユニット

FE-SEM [S-4800]

メーカー名
(株)日立ハイテクノロジーズ
型番
S-4800
仕様
・電子銃 ZrO/W 電界放射型
・加速電圧 0.1-30kV
・2次電子像分解能 1.0nm (ノーマル:15kV) 1.4nm (リターディング:1.0kV)
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微細加工ユニット

"微細加工"で検索した結果  49件

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