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マルチモーダル分析電子顕微鏡
- メーカー名
- 日本エフイー・アイ株式会社
- 型番
- Talos F200X G2
- 仕様
- 【性能・仕様】
1.加速電圧：200kV,80kV
2.電子銃：超高輝度冷陰極電解放出型電子銃
3.TEMインフォメーションリミット：0.11nm（200kV）
4.STEM分解能（HAADF）：0.14nm（200kV）
5.EDS検出器：SSD検出器×4、立体角；0.9srad
6.カメラ：CMOSカメラ
7.分割型検出器
【特徴】
1.ビギナーレベルのユーザーが苦手とする電子光学的軸調整やサンプルの方位合わせなどの負担を減らすための安定した制御システムとソフトウェア
2.高倍率でも視野を見失わない安定したステージとゴニオメーター
3.大立体角EDS検出器
- 料金案内
- NOF利用料金表
- 問い合わせ先部署
- 電子顕微鏡ユニット
原子層堆積装置 [TFS200]
- メーカー名
- Beneq
- 型番
- TFS200
- 仕様
- 【性能・仕様】
・用途：多種ALD酸化膜形成
・成膜方式：サーマルALD
【特徴】
・成膜膜種：Al2O3, TiO2, HfO2, ZnO, ZrO2, Y2O3, Ta2O5
・試料サイズ：最大φ8インチ
- 料金案内
- NOF利用料金表
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
HMDSベーク処理装置 [APPS-30]
- メーカー名
- リソテックジャパン
- 型番
- APPS-30
- 仕様
- 【性能・仕様】
・用途：HMDS処理
・処理方法：バブリング方式
・試料サイズ：最大φ8インチ
【特徴】
・用途：HMDS処理
・処理方法：バブリング方式
・試料サイズ：最大φ8インチ
- 料金案内
- NOF利用料金表
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
マスクレス露光装置 [DL-1500iS2]
- メーカー名
- ナノシステムソリューションズ
- 型番
- DL-1500iS2
- 仕様
- 【性能・仕様】
・露光方式：DMD
・露光モード：スキャニング露光、ステップアンドリピート露光
【特徴】
・光源：365nm LED
・照度：10W/cm2
・位置決め精度：±0.5um以下
・重ね合わせ精度 ±0.5um以下
・試料サイズ 最大8インチ角
- 料金案内
- NOF利用料金表
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
自動現像装置 [AD-1200]
- メーカー名
- 滝沢産業
- 型番
- AD-1200
- 仕様
- 【性能・仕様】
・処理方法：スプレー式またはパドル式
・使用薬液：TMAH2.38%
・基板ホルダー：真空吸着式
・基板回転数：0～3000rpm
・処理時間：999sec/step（1sec単位）
・適応サイズ：20mm角～φ6インチウェハ
【特徴】
・フォトレジストの現像を自動で行う装置
- 料金案内
- NOF利用料金表
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
フィールドエミッション電子プローブマイクロアナライザー（JXA-iHP200F）
- メーカー名
- 日本電子株式会社
- 型番
- JXA-iHP200F
- 仕様
- 【性能・仕様】
１．電子銃：電界放出形
２．加速電圧1～30 kV
３．照射電10 pA-3 μA
４．測定可能元素：B-U
５．最大試料サイズ：100 x 100 x 50 mm
６．オートローダー機能
【特徴】
１．波長分散型検出器5基（分光結晶：14個）搭載
（分析可能元素：B-U ）
２．エネルギー分散型検出器
（分析可能元素：B-U ）
３．アンチコンタミネーション搭載
（O2ジェット＆エバクトロン）
４．任意の質量吸収係数を使用したオフ
ライン定量分析が可能
- 料金案内
- NOF利用料金表
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
レーザ元素分析デジタルマイクロスコープ
- メーカー名
- 株式会社キーエンス
- 型番
- EA300
- 仕様
- 【性能・仕様】
・レーザ：Nd:YAGレーザ(クラス1)
・レーザ波長：355 nm
・レーザスポット径：10 µm
・観察倍率：300～1000倍
【特徴】
・大気条件下における高速測定
・Nd:YAGレーザ(レーザクラス1)を使用しデジタルマイクロスコープと併用してサンプルを測定可能
・広帯域（深紫外線～近赤外線）の発光線を検出可能
・複数個所を連続して測定可能
・同一箇所の深さ方向を測定可能
- 料金案内
- NOF利用料金表
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
イオンビームミリング複合装置 [16IBE-NIMS_SS]
- メーカー名
- 伯東
- 型番
- 16IBE-NIMS_SS
- 仕様
- ・プラズマ励起方式：直流放電型（カウフマン型）
・イオンビーム電圧：100-1000V
・イオンビーム電流：800mA
・プロセスガス：Ar
・グリッド径：φ16cm
・最大試料サイズ：φ6inch
・その他：RFスパッタ機構装備、質量分析終点検出機能装備
- 料金案内
- NOF利用料金表
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
蒸気二流体洗浄装置 [SSM101]
- メーカー名
- HUGパワー
- 型番
- SSM101
- 仕様
- 【性能・仕様】
・用途：基板洗浄、リフトオフ
・手法：蒸気二流体超音速噴射
・溶液：純水
・乾燥：スピン乾燥、N2ブロー
・最大試料サイズ：φ6inch
【特徴】
・蒸気二流体による洗浄・リフトオフを行う装置。
- 料金案内
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- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
FE-SEM+EDX [JSM-IT800]
- メーカー名
- 日本電子株式会社
- 型番
- JSM-IT800
- 仕様
- 【性能・仕様】
・加速電圧：0.01～30kV
・倍率：50～200万倍
・分解能：0.6nm(15kV),1.5nm(1kV)
・検出器：SED, UID
・最大試料サイズ：6インチφ
・EDX：JEOL製EX-74710U1L4Q
【特徴】
・低真空SEM対応
・EB描画パターンデータ読込可能
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