SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]
![SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]](data/facility_item/1673328433_16.jpg)
| 装置ID | NF0252 |
|---|---|
| 装置名称 | SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL] |
| メーカー名 | サムコ株式会社 |
| 型番 | PD-220NL |
| 用途 | ・微細加工（成膜） ・高品質SiO2薄膜形成 |
| 仕様 | ・プラズマ方式：平行平板型 ・電源出力：30-300W ・原料：TEOS (SiO2) ・成膜温度：400度以下 ・試料サイズ：最大φ8インチ |
| 利用時間単位 | 時間（1h） |
|---|---|
| 利用可能形態 |
|
| 料金案内 | NOF利用料金表 |
| マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
| 問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
| 設置場所 | 千現地区 材料信頼性実験棟1F |
※予約状況につきましては、お問い合わせください。
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