マスクレス露光装置 [MLA150]
![マスクレス露光装置 [MLA150]](data/facility_item/1679984897_16.jpg)
| 装置ID | NF0255 |
|---|---|
| 装置名称 | マスクレス露光装置 [MLA150] |
| メーカー名 | ハイデルベルグ・インストルメンツ |
| 型番 | MLA150 |
| 用途 | 半導体デバイスプロセスにおけるリソグラフィ工程 |
| 仕様 | 露光方式:DMD 光源:375nm半導体レーザー 解像度:1um 位置決め精度:0.5um以下 重ね合わせ精度:0.5um以下 最大試料サイズ:8インチ角 |
| 利用時間単位 | 時間(1h) |
|---|---|
| 利用可能形態 |
|
| 料金案内 | NOF利用料金表 |
| マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
| 問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
| 設置場所 | 千現地区 材料信頼性実験棟1F |
※予約状況につきましては、お問い合わせください。
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